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瀏(liú)覽:- 發布(bù)日期:2017-05-23 10:45:40【

反應(yīng)離子蝕刻技術是一種物理化學工藝過程。化學反應氣體(自由(yóu)基、離子)與待除去的銅箔反應。生成一種揮發性氣體化合物,它(tā)很容易從此表麵(miàn)上抽吸掉。反應等離子蝕刻是有選擇性的,優先與要去除的(de)銅箔發生反應,但不與保護膠(jiāo)發生反(fǎn)應。反應離子(zǐ)蝕刻可以是全方位的(各向同性),也(yě)可以是有方向性(xìng)的(各向異性),取決於使用的等離子條件。當然,在高精度(dù)的(de)製造場合,我們選取的是其各向異性的特征。該蝕刻方式不僅蝕刻精度高,而且蝕刻速率快(kuài)(每分鍾蝕刻銅箔的速率為幾千埃),是最(zuì)為理想的高精度時刻方式。

蝕刻技術

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