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化學蝕刻中常見的（de）問題
化學蝕刻中常見的問題有：
1、 邊緣輪廓線不清楚，這種情況是因（yīn）為（wéi）零件表麵沾汙，如手印、化學（xué）汙染、氧化膜、防（fáng）蝕層邊（biān）緣不清晰等，還有就是蝕刻液濃度不在工藝（yì）規定範圍內，這種情況下首先需要加強（qiáng）各工序管理，防止二次汙染（rǎn），在蝕刻之前對防蝕層檢查要嚴格，其次分析調整蝕刻液（yè）各成（chéng）分至工藝規定範（fàn）圍。
2、 粗糙的蝕刻表麵，被（bèi）蝕刻表麵有（yǒu）溝槽、留（liú）痕及點蝕，其主要原因是蝕刻液中AI3+濃度太高，NaOH濃度太高或太低，蝕刻後酸洗後，漂洗不淨，糾正的方法就是分析調整蝕刻液各成份濃度到工藝規定範圍，加（jiā）強（qiáng）酸洗後的水洗質量。
3、 形成凹坑（kēng）主要是因為蝕刻液中AI3+濃度及NaOH濃度太高，處理（lǐ）的方法就是稀釋蝕刻液，降低濃（nóng）度（dù）。
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