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91污视频在线观看為你講解（jiě）高精度蝕刻技術：反應離子蝕刻

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瀏（liú）覽：- 發（fā）布（bù）日（rì）期：2017-05-23 10:45:40【大中小】

反應離（lí）子蝕（shí）刻技術是一種物理化學工藝過程。化學反應氣體(自由基、離子)與待除去的銅箔反應。生（shēng）成一種揮發性氣體化合物，它很容易從此表麵上抽吸掉。反應等離子蝕刻是有選擇性的，優先與要去（qù）除的銅箔發（fā）生反（fǎn）應，但不（bú）與保護（hù）膠發生反（fǎn）應。反（fǎn）應離子蝕刻可以是全方（fāng）位的(各（gè）向同（tóng）性)，也可以是有方向性的(各向異（yì）性)，取（qǔ）決於使用（yòng）的等離子條件。當然，在高精度的製造場合，我們選取的是其各向異性的特征。該蝕（shí）刻方式不僅蝕刻精度高（gāo），而且蝕刻速率快(每分鍾蝕刻銅箔的速率為幾千（qiān）埃（āi）)，是最為理想的高精（jīng）度（dù）時刻方式。

蝕刻技術