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鑫海（hǎi）森為你講解高精度蝕刻技術（shù）：反應離子蝕刻
反應離子蝕刻技術是一種物理化學工藝過程。化學反應氣（qì）體(自（zì）由基、離子)與（yǔ）待除去的銅箔反應。生成一種揮發性氣體化合物，它很（hěn）容易從此表麵上抽（chōu）吸掉。反應等離子蝕刻是有選擇性的，優先（xiān）與要去除的銅箔發生反應，但不與保護膠發生反應。反應離子蝕刻可以是全方（fāng）位的(各向（xiàng）同性)，也（yě）可以是有方向性的(各（gè）向異性)，取決於使用的等離子條件。當然，在高精度的製造場合，我們選取的是其各向（xiàng）異性的特征。該蝕刻方式不僅蝕刻精度高，而且蝕刻速率快（kuài）(每分鍾蝕刻銅箔的速率為幾（jǐ）千埃)，是最為理想的高精度時刻方式。
深圳（zhèn）市鑫海（hǎi）森科技有限公司主要進行精（jīng）密五金件的加工，產品涉（shè）及的範圍相當廣泛，涵蓋了通訊、聲學、光學、醫療等領域。如果您（nín）對我們（men）的蝕刻（kè）技術感興趣，請聯係我們：0755-29791052。
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